Module de prétraitement: Équipé d'une filtration multimédia et d'une adsorption au charbon actif pour éliminer les solides en suspension, le chlore et les impuretés organiques (COT ≤ 5 ppm), empêchant l'encrassement des membranes et assurant la stabilité à long terme des composants en aval.​

Système RO à deux étages: Le premier étage RO atteint un rejet de sel de 95 % et plus, tandis que le deuxième étage purifie davantage le perméat pour réduire les ions résiduels (conductivité ≤ 5 µS/cm), jetant les bases de la production d'eau de haute pureté.​

Module EDI: Utilise une électrodéionisation continue sans régénération chimique pour obtenir une sortie d'eau ultrapure avec une résistivité allant jusqu'à 18,2 MΩ·cm (25 °C) et un nombre de particules (≥ 0,1 µm) ≤ 10 particules/ml, répondant aux normes strictes de qualité de l'eau pour le nettoyage par ultrasons de précision (par exemple, les plaquettes de semi-conducteurs, les instruments médicaux et les composants optiques).​

Nettoyeurs à ultrasons à une ou plusieurs cuves: Fournit de l'eau ultrapure à faible COT et à faible teneur en particules pour améliorer l'effet de cavitation, garantissant que les contaminants (par exemple, les résidus de flux, les fines métalliques) sont complètement délogés sans se redéposer sur les surfaces des composants.​

Lignes à ultrasons semi-automatiques/entièrement automatiques: S'intègre aux systèmes de contrôle PLC pour synchroniser l'alimentation en eau avec les cycles de nettoyage (par exemple, les étapes de rinçage), réduisant l'intervention manuelle et améliorant l'efficacité de la production.​

Configurations ultrasonores personnalisées: Adaptable au nettoyage de précision à haute fréquence (80-120 kHz) ou aux applications de dégraissage intensif à basse fréquence (28-40 kHz), car la faible conductivité de l'eau ultrapure minimise les risques de corrosion électrochimique pour les pièces sensibles.