L'instrument AL-Y3500xrdf est un appareil analytique haut de gamme qui intègre la technologie de diffraction des rayons X (XRD) et la technologie de spectroscopie des rayons X (EDS). Il est principalement utilisé pour l'analyse de la composition élémentaire et la caractérisation structurelle des matériaux. Grâce à une seule mesure, il peut obtenir simultanément des informations clés telles que la composition élémentaire, la structure cristalline, la composition de phase et la taille des grains du matériau. Il est largement appliqué dans des domaines tels que la science des matériaux, la géologie, la physique, la chimie, la biologie, les semi-conducteurs, la caractérisation des catalyseurs, l'analyse des matrices métalliques et la nanotechnologie.
Caractéristiques :
1.Intégration efficace : Une seule mesure peut obtenir simultanément des données de diffraction et de spectroscopie, éliminant ainsi le processus chronophage et sujet aux erreurs des mesures traditionnelles étape par étape.
2. Haute sensibilité et précision : Utilisant des détecteurs et des algorithmes avancés, la limite de détection est aussi basse que le niveau ppm, et la précision de la résolution structurelle atteint le niveau atomique.
3. Extension multifonctionnelle : Divers accessoires fonctionnels répondent aux besoins de différents objectifs de test. Ils prennent en charge diverses formes d'échantillons (poudre, bloc, film, etc.), sont compatibles avec des environnements spéciaux tels que les hautes températures, les basses températures et les hautes pressions, et sont équipés d'un système de contrôle de générateur de rayons X à haute stabilité pour obtenir une précision de mesure répétée plus stable.
4. Intégration matérielle : Partage de la source de rayons X, de la platine porte-échantillon et du système de contrôle pour assurer la synchronisation des trajets optiques et l'adaptation des signaux des deux technologies.
5. Fusion de données : Grâce à un logiciel dédié, les diagrammes de diffraction et les données spectrales sont analysés conjointement. En intégrant les informations de structure cristalline de la diffraction des rayons X (XRD) et les données de composition élémentaire de la spectroscopie de fluorescence des rayons X (XRF), la caractérisation complète de la substance est réalisée.
6. L'identification d'une ou plusieurs phases cristallines dans des échantillons inconnus peut être effectuée simultanément, et 40 éléments peuvent être analysés en même temps.
7. Utilisant plusieurs collimateurs et un système de fente solaire, il est doté d'une technologie de propriété intellectuelle exclusive.
8. L'analyse de la structure cristalline (analyse de structure de Rietveld) est effectuée, y compris les paramètres de base, la méthode du coefficient empirique, etc.
9. Dans des conditions non conventionnelles (telles que les hautes et basses températures), la structure cristalline peut changer, et plusieurs plateformes d'échantillons peuvent être prises en compte.
10. Analyse d'échantillons de films minces, y compris la phase cristalline du film, l'épaisseur des films multicouches, la rugosité de surface et la densité de charge.
11. Analyse d'échantillons de micro-zones, texture des matériaux métalliques et analyse des contraintes.
Paramètre technique
Puissance nominale |
3kW (technologie de contrôle haute fréquence haute tension) |
Tension du tube |
10 - 60kV |
Courant du tube |
5 - 50mA |
Tube à rayons X |
Tube en céramique métallique, matériaux : Cu, Fe, Co, Cr, Mo, etc., puissance : 2,4kW |
Taille du spot focal |
1×10mm, 0,4×14mm, 2×12mm |
Stabilité |
≤0,005% |
Plage de détection des éléments |
Na (Sodium) ~ U (Uranium) |
Structure du goniomètre |
Échantillon horizontal (θ - θ) |
Rayon du cercle de diffraction |
225mm (ou personnalisé selon les besoins : 185 - 325mm en option) |
Épaisseur de détection |
Épaisseur analysable de la couche de revêtement métallique 0,0025μm |
Plage de mesure de la teneur en éléments |
1PPM - 99,99% |
Plage de mesure 2θ |
- 110° ~ 168° |
Vitesse de balayage |
0,0012° ~ 50°/min |
Vitesse de positionnement angulaire |
1500°/min |
Mode de balayage |
θ/s/θ/d liaison, action unique ; continu, pas à pas, 0mg |
Angle de pas minimum |
1/10000° |
Répétabilité angulaire |
1/10000° |
Linéarité angulaire 2θ |
L'écart angulaire de tous les pics dans la plage spectrale complète des échantillons standard internationaux (Si, Al2O3) ne dépasse pas ±0,01° |
Détecteur |
Détecteur à scintillation (SC), détecteur à photon unique, détecteur matriciel à grande vitesse + détecteur d'énergie haute résolution |
Taux de comptage linéaire maximum |
5×10⁵CPS (SC avec fonction de compensation du débordement du comptage), 3×10⁵CPS (photon unique), 9×10⁵CPS (matrice), 1,5×10⁵CPS (énergie) |
Résolution énergétique |
≤50% (SC), ≤200eV (photon unique), ≤25% (matrice), ≤140eV (énergie) |
Mode de comptage |
Mode différentiel ou intégral, PHA automatique, correction du temps mort |
Stabilité de la mesure du système |
≤0,01% |
Dose de rayonnement diffusé |
≤1μSv/h (sauf dispositif de protection contre les rayons X) |
Stabilité globale de l'instrument |
≤0,1% |
Dimensions hors tout |
1320×1000×1800mm |