Application Haut-pure de Moly Ion Implanting Parts In Semiconductor

Moly Ion Implanting Parts sont une technologie de faisceau d'ions qui ionise les atomes d'un élément dans des ions, les accélère à une tension des dix aux centaines de kilovolt, et les injecte dans la surface du matériel d'objet placée dans la chambre de cible de vide après obtention de la grande vitesse.

Après implantation ionique, les propriétés d'examen médical, chimiques et mécaniques de la surface du matériel changeront de manière significative. La résistance à l'usure continue de la surface métallique peut atteindre 2 | 3 ordres de grandeur de la profondeur initiale d'implantation.

SPÉCIFICATIONS ET COMPOSITIONS CHIMIQUES (NOMINAUX)

Avantages de technologie de Moly Ion Implanting Parts :

(1) c'est une technologie non polluée pure de préparation de surface ;

(2) il n'a pas besoin d'activation thermique et d'environnement à hautes températures, ainsi il ne changera pas la dimension hors-tout et la finition extérieure de l'objet ;

(3) la couche d'implantation ionique est une nouvelle couche extérieure constituée par une série d'interactions physiques et chimiques entre le faisceau d'ions et la surface de substrat, et il n'y a aucun problème de épluchage entre lui et le substrat ;

(4) là n'est aucun besoin d'usinage et de traitement thermique après implantation ionique.

Moly Ion Implanting Parts Picture :

DEMANDES de Moly Ion Implanting Parts

En technologie des semiconducteurs, l'implantation ionique a l'uniformité et la répétabilité à haute précision de dose. Elle peut obtenir la concentration et l'intégration de dopage idéales, pour améliorer considérablement la durée de vie d'intégration, de vitesse, de rendement et du circuit, et réduit la puissance de coût et. C'est différent de la déposition en phase vapeur.

Afin d'obtenir des paramètres idéaux, tels que l'épaisseur de film et la densité, la déposition en phase vapeur doit ajuster l'équipement plaçant des paramètres, tels que la température et le débit d'air, qui est un processus complexe.

En plus de l'industrie de production de semi-conducteur, avec le développement rapide de l'automation de contrôle industrielle, la technologie d'implantation ionique est également très utilisée dans l'amélioration des métaux, de la céramique, du verre, des composés, des polymères, des minerais et des graines d'usine.