Introduction de l'équipement
En utilisant une alimentation moyenne fréquence (généralement 10-150 KHZ) comme source d'énergie, le mouvement des électrons est contraint par un champ magnétique pour améliorer l'efficacité d'ionisation du gaz, ce qui provoque la pulvérisation des atomes ou des molécules du matériau cible et leur dépôt sur la surface du substrat pour former un film.

Caractéristiques principales
1. Il est alimenté par une alimentation moyenne fréquence, supprimant efficacement le phénomène de décharge d'arc pendant le processus de pulvérisation réactive et assurant la stabilité du processus de revêtement.

2. Prend en charge le fonctionnement à haute puissance, avec une vitesse de pulvérisation de la cible rapide, ce qui peut améliorer l'efficacité de la production et répondre aux exigences de la production de masse.

3. Il a une forte compatibilité et peut utiliser divers matériaux cibles tels que les cibles métalliques et les cibles céramiques pour préparer de multiples types de films fonctionnels.

4. L'uniformité du revêtement est bonne, l'adhérence du film est forte, la qualité de la couche de film est stable et l'épaisseur du film peut être contrôlée avec précision.

Avantages principaux1. Le problème de l'accumulation de charges pendant les matériaux cibles isolants ou la pulvérisation réactive a été résolu, réduisant les défauts de la couche de film.
2. Vitesse de pulvérisation élevée, faible consommation d'énergie, haute efficacité et économie d'énergie.

3. La couche de film a une densité et une pureté élevées, et se comporte de manière exceptionnelle dans des indicateurs clés tels que les propriétés optiques et mécaniques.

4. Il fonctionne de manière stable et fiable avec des coûts de maintenance relativement faibles.

Applications

Le domaine de l'optique

1. Il est utilisé pour la préparation de films optiques, tels que les films antireflets et les films anti-réfléchissants pour les verres de lunettes.
2. Production de films filtrants optiques et de films conducteurs pour les dispositifs d'affichage tels que les LCD et les OLED.

3. Fabrication de films antireflets et de films conducteurs transparents pour les cellules solaires.

Le domaine de l'électronique et des semi-conducteurs

1. Préparation de films métallisés pour les puces semi-conductrices (tels que les films d'aluminium et les films de cuivre).
2. Films fonctionnels pour la production de composants électroniques tels que les condensateurs et les capteurs.

3. Fabrication de films d'oxyde conducteur transparent (TCO) pour les écrans tactiles.

Domaine de la décoration et de l'apparence

1. Application de films décoratifs (tels que le film de titane doré et le film de zirconium) sur le matériel et les matériaux de construction (tels que les portes et les fenêtres, les accessoires de salle de bain).
2. Il est appliqué au revêtement de pièces automobiles (telles que les roues et les pièces intérieures).

3. Application de films colorés et de films anti-traces de doigts sur les coques de téléphones portables et d'appareils électroménagers.

Le domaine des outils et des moules

1. Des films durs (tels que les films TiN et TiAlN) sont revêtus pour les outils de coupe et les moules.
2. Utilisé pour le revêtement de composants d'instruments de précision.

Autres domaines spéciaux

1. Préparation de films anticorrosion et application sur les composants de l'ingénierie maritime et des équipements chimiques.

2. Production de films à surface modifiée pour les matériaux biomédicaux (tels que les films antibactériens pour les implants en alliage de titane).

3. Revêtement de films barrières sur les matériaux d'emballage pour améliorer leur résistance à l'oxygène et à l'humidité, prolongeant ainsi la durée de conservation des produits.