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Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C
Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C
Les spécifications
Numéro de modèle :
JTM-100504AD
Lieu d'origine :
Dongguan, Guangdong
Quantité minimale de commande :
1
Conditions de paiement :
t/t
Capacité à fournir :
Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.
Délai de livraison :
30 à 60 jours ouvrables
Détails de l'emballage :
Emballage: boîtier en bois, cadre en bois, film étirable, dimensions: 12 M*2 M*2,8 M
Modèle :
JTM-100504AD
Le pouvoir :
120kW
Type :
Lavage alcalin aux ultrasons + Lavage acide aux ultrasons + Rinçage à l'eau pure
Fréquence de nettoyage :
Les fréquences de fréquence de l'appareil doivent être:
Nombre de réservoirs :
10
Température de nettoyage :
60°C
Dimensions globales :
12M*2M*2.8M
name :
Machine à nettoyer les semi-conducteurs
Définition

Introduction du produit : Nettoyeur de plaquettes de silicium pour semi-conducteurs

Conçu spécifiquement pour la fabrication de semi-conducteurs, ce système de nettoyage de précision intègre des processus ultrasoniques multi-étapes pour répondre aux exigences strictes de pureté de surface des plaquettes de silicium, garantissant une contamination particulaire minimale et l'élimination des résidus, éléments essentiels à la fabrication des plaquettes.

Processus de nettoyage principaux :

  • Nettoyage ultrasonique alcalin : Utilise une chimie alcaline combinée à l'énergie ultrasonique pour éliminer efficacement les contaminants organiques, les résidus de résine photosensible et les grosses particules des surfaces des plaquettes, préparant ainsi les substrats pour les traitements ultérieurs.
  • Nettoyage ultrasonique acide : Cible les impuretés inorganiques (par exemple, les ions métalliques, les oxydes) grâce à un traitement ultrasonique à base d'acide, en tirant parti des effets de cavitation pour déloger les contaminants submicroniques intégrés dans les textures ou les structures à motifs des plaquettes.
  • Rinçage à l'eau désionisée : L'étape finale utilise de l'eau désionisée de haute pureté pour un rinçage complet, éliminant les agents de nettoyage résiduels et garantissant la neutralité de la surface, une condition préalable à la manipulation et au traitement des plaquettes après le nettoyage.

Spécifications techniques :

  • Fréquence ultrasonore : 40 kHz-80 kHz (multi-fréquences réglables, optimisant l'intensité de la cavitation pour différents types de contamination)
  • Température de fonctionnement : 60 °C (environnement thermique contrôlé avec précision pour améliorer la réactivité chimique et l'efficacité du nettoyage)
  • Compatibilité des matériaux : Construit avec des composants en PVDF, en quartz et en acier inoxydable 316L pour résister aux chimies corrosives et prévenir la contamination secondaire.

Avantages clés :

  • Atteint une efficacité d'élimination des particules inférieure à 10 nm, conforme aux normes SEMI pour le traitement avancé des plaquettes
  • La configuration ultrasonore multi-fréquences s'adapte aux diverses exigences de nettoyage (des plaquettes nues aux étapes de plaquettes à motifs)
  • Le contrôle de la température en boucle fermée assure la répétabilité du processus, essentielle pour la cohérence d'un lot à l'autre
  • S'intègre de manière transparente dans les chaînes de fabrication front-end et back-end des semi-conducteurs

Application : Idéal pour le nettoyage des plaquettes de silicium dans la fabrication de circuits intégrés, la fabrication de MEMS et les processus d'encapsulation des semi-conducteurs, où l'intégrité de la surface a un impact direct sur les performances et le rendement des appareils.

Mots-clés : Nettoyeur de plaquettes de semi-conducteurs, nettoyage ultrasonique alcalin/acide, rinçage à l'eau désionisée, 40-80 kHz, contrôle de la température à 60 °C, traitement des plaquettes de silicium

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°CNettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C

Nettoyeur de plaquettes de silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons + rinçage à l'eau par DI, 40KHz-80KHz, 60°C

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Détails du produit
Numéro de modèle :
JTM-100504AD
Lieu d'origine :
Dongguan, Guangdong
Quantité minimale de commande :
1
Conditions de paiement :
t/t
Capacité à fournir :
Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.
Délai de livraison :
30 à 60 jours ouvrables
Fournisseur de contact
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guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.

Active Member
1 Années
guangdong, dongguan
Depuis 2005
Produits principaux :
Équipement de nettoyage par ultrasons, Nettoyeur à ultrasons électronique, Nettoyeur à ultrasons
Total annuel :
4,397,596.73-6,397,596.73
Nombre de salariés :
460~500
Niveau de certification :
Active Member
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