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Nettoyeur de gaufres en silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons à 40 kHz-80 kHz + rinçage à l'eau pure, à 60 °C
Nettoyeur de gaufres en silicium à semi-conducteurs - Nettoyage alcalin/acide par ultrasons à 40 kHz-80 kHz + rinçage à l'eau pure, à 60 °C
Les spécifications
Numéro de modèle :
JTM-100504AD
Lieu d'origine :
Dongguan, Guangdong
Quantité minimale de commande :
1
Conditions de paiement :
t/t
Capacité à fournir :
Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.
Délai de livraison :
30 à 60 jours ouvrables
Détails de l'emballage :
Emballage: boîtier en bois, cadre en bois, film étirable, dimensions: 12 M*2 M*2,8 M
Fréquence de nettoyage :
Les fréquences de fréquence de l'appareil doivent être:
Type :
Lavage alcalin aux ultrasons + Lavage acide aux ultrasons + Rinçage à l'eau pure
name :
Machine à nettoyer les semi-conducteurs
Température de nettoyage :
60°C
Dimensions globales :
12M*2M*2.8M
Modèle :
JTM-100504AD
Nombre de réservoirs :
10
Le pouvoir :
120kW
Définition
Présentation du produit : Système de nettoyage de plaquettes de silicium pour semi-conducteurs​
Conçu sur mesure pour la fabrication de semi-conducteurs de haute précision, ce système de nettoyage intégré combine des processus ultrasoniques multi-étapes pour fournir une pureté de surface inférieure au ppb, une condition préalable essentielle à la fabrication de plaquettes de silicium dans la production microélectronique de nœuds avancés (≤7 nm).​
Mécanisme de nettoyage étape par étape:​
  • Nettoyage ultrasonique alcalin: Fonctionne à 40 kHz-80 kHz pour générer une cavitation contrôlée dans un milieu alcalin, éliminant efficacement les contaminants organiques (par exemple, les réserves photosensibles, les hydrocarbures) et les particules (≥1 μm) des surfaces des plaquettes et des structures à motifs. L'énergie ultrasonique à fréquence réglable assure un nettoyage uniforme sur les plaquettes de 4 "-12 ", y compris les bords biseautés et les surfaces arrière.​
  • Nettoyage ultrasonique acide: Utilise la même plage de fréquences dans des solutions acides pour cibler les impuretés inorganiques, en particulier les contaminants ioniques métalliques (Fe, Cu, Zn) et les couches d'oxyde natif (SiO₂). Cette étape utilise des micro-jets induits par cavitation pour déloger les particules de moins de 100 nm intégrées dans les tranchées ou les vias, validée par des compteurs de particules laser (≤5 particules/plaquette pour ≥0,1 μm).​
  • Cycle de rinçage à l'eau pure: Le rinçage final avec de l'UPW (eau ultra-pure, COT ≤3 ppb) élimine les produits chimiques résiduels, atteignant une résistivité de surface ≥18,2 MΩ·cm pour répondre aux normes SEMI F020 pour le traitement avant dépôt.​
Spécifications techniques:​
  • Bande de fréquences ultrasonores: 40 kHz-80 kHz (multi-fréquences sélectionnables via PLC, optimisant l'intensité de cavitation pour le type de contamination)​
  • Température de traitement: 60 °C (contrôlée par PID, tolérance de ±0,5 °C) pour accélérer la réactivité chimique sans induire de contrainte sur la plaquette​
  • Compatibilité des matériaux: Composants mouillés en PFA et en alumine de haute pureté pour résister à la corrosion HF/H₂SO₄, empêchant le détachement de particules​
Indicateurs de performance clés:​
  • Efficacité d'élimination des particules (PRE) ≥99,9 % pour les contaminants ≥0,1 μm​
  • Élimination des résidus chimiques ≤0,1 ng/cm² (vérifié par ICP-MS)​
  • Compatible avec la manipulation automatisée des cassettes (FOUP/SMIF) pour une intégration en usine 24 h/24 et 7 j/7​
Application: Essentiel pour le nettoyage avant lithographie, post-CMP et avant implantation dans les chaînes de production de plaquettes logiques, de mémoire et de capteurs.​
Mots-clés: Nettoyeur de plaquettes de semi-conducteurs, nettoyage ultrasonique alcalin/acide, rinçage UPW, 40-80 kHz, traitement à 60 °C, décontamination des plaquettes de silicium​
Ce système garantit des performances de nettoyage constantes pour maximiser le rendement dans les environnements de fabrication de semi-conducteurs à haut volume.

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Détails du produit
Numéro de modèle :
JTM-100504AD
Lieu d'origine :
Dongguan, Guangdong
Quantité minimale de commande :
1
Conditions de paiement :
t/t
Capacité à fournir :
Une unité, ça prendra 30 à 60 jours.
Délai de livraison :
30 à 60 jours ouvrables
Fournisseur de contact
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guangdong Jietai Ultrasonic cleaning Equipment Co., Ltd.

Active Member
1 Années
guangdong, dongguan
Depuis 2005
Produits principaux :
Équipement de nettoyage par ultrasons, Nettoyeur à ultrasons électronique, Nettoyeur à ultrasons
Total annuel :
4,397,596.73-6,397,596.73
Nombre de salariés :
460~500
Niveau de certification :
Active Member
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