Exigence principale: eau de haute pureté pour éviter la contamination des composants de précision par des ions, des particules et des substances organiques.

• Processus de nettoyage, de gravure et de photolithographie des puces à semi-conducteurs
• Production de composants électroniques (condensateurs, résistances)
• Fabrication de panneaux LCD et solaires (nettoyage des substrats, préparation des revêtements)

Exigence principale: eau purifiée répondant aux normes de la pharmacopée (USP, Pharmacopée chinoise).

• Eau pour préparations injectables et préparations liquides orales
• Processus de biotechnologie (fermentation, production de vaccins)
• Équipement médical (machines de dialyse)

Exigences essentielles: Faible dureté, eau à faible teneur en ions pour empêcher l'équipement de se déchiqueter et de se corroder.

• Traitement des eaux d'alimentation par chaudière (installations thermiques/nucléaires)
• Traitement de l'eau de refroidissement par turbine à vapeur et condensateur

Exigence principale: eau de haute pureté comme milieu de réaction pour maintenir la pureté du produit.

• Production d'intermédiaires pharmaceutiques et de catalyseurs
• Nanomatériaux et préparation d'électrolytes de batteries au lithium
• Applications analytiques en laboratoire

Exigence fondamentale: eau purifiée répondant aux normes de sécurité alimentaire, exempte de micro-organismes et de contaminants.

• Production de boissons (eau pure, jus, bière)
• Nettoyage des équipements de transformation alimentaire et laitiers
• Préparation d'additifs alimentaires

Exigence principale: eau ultrapure pour des expériences et des analyses de haute précision.

• Laboratoires des universités et des établissements de recherche
• Surveillance environnementale et contrôle de la qualité de l'eau
• Applications pour les essais médicaux

• Post-traitement pour la désalinisation de l'eau de mer/eau saumâtre
• Production de produits cosmétiques (émulsions, essences)
• Processus de fabrication automobile