Il s'agit notamment du dépôt de films minces sur une variété de substrats.

1Titane: Les cibles de pulvérisation au titane sont couramment utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation pour déposer des films minces sur une gamme de substrats.Le titane est un matériau populaire pour l'utilisation dans les revêtements, car il est à la fois biocompatible et possède d'excellentes propriétés mécaniques

2.Aluminium: Les cibles de pulvérisation en aluminium sont également utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation, en particulier dans la production de revêtements réfléchissants et de composants électroniques.Les revêtements en aluminium ont une bonne conductivité électrique et sont très réfléchissants, ce qui les rend idéales pour une utilisation dans les applications optiques et électroniques.

3.Chrome: les cibles de pulvérisation au chrome sont utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation à des fins industrielles et décoratives, y compris la production de revêtements décoratifs,composants automobiles, et des composants électroniques.

4.Zirconium: Les cibles de pulvérisation au zirconium sont couramment utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation en raison de leur point de fusion élevé et de leur excellente résistance à la corrosion.Les revêtements en zirconium sont couramment utilisés dans la production de revêtements décoratifs et de composants électroniques haute performance..

5Nickel: Les cibles de pulvérisation au nickel sont largement utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation, en particulier dans la production de films minces magnétiques et de revêtements pour composants électroniques.Les revêtements au nickel sont également couramment utilisés dans les applications décoratives.

6.Niobium: Les cibles de pulvérisation au niobium sont utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation pour leur point de fusion élevé, leur faible coefficient de dilatation thermique et leur excellente résistance chimique.Les revêtements au niobium sont couramment utilisés dans la production de composants électroniques haute performance et de revêtements optiques.

7.Tantal: Les cibles de pulvérisation au tantale sont utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation pour leur point de fusion élevé, leur excellente résistance chimique et leur basse pression de vapeur.Les revêtements au tantale sont couramment utilisés dans la production de condensateurs, composants électroniques et implants médicaux.

8Molybdène: les cibles de pulvérisation au molybdène sont utilisées dans les applications de revêtement PVD et d'évaporation pour leur point de fusion élevé, leur faible coefficient de dilatation thermique,et une excellente conductivité électriqueLes revêtements au molybdène sont couramment utilisés dans la production de composants électroniques de haute performance et de revêtements optiques.