Les spécifications
Number modèle :
GaN-saphir 4inch
Point d'origine :
La Chine
MOQ :
5pcs
Conditions de paiement :
T/T, Western Union, Paypal
Capacité d'approvisionnement :
50PCS/Month
Délai de livraison :
dans 30days
Détails de empaquetage :
conteneur simple de gaufrette dans la chambre de nettoyage
substrat :
gaufrette de saphir
couche :
Calibre de GaN
épaisseur de couche :
1-5um
type de conductivité :
N/P
Orientation :
0001
application :
puissance élevée/appareils électroniques à haute fréquence
application 2 :
dispositifs de 5G saw/BAW
épaisseur de silicium :
525um/625um/725um
Définition

2inch 4inch 4" saphir a basé le film de GaN de calibres de GaN sur le substrat de saphir

 

Propriétés de GaN

 

Propriétés chimiques de GaN

1) À la température ambiante, GaN est insoluble en eau, acide et alcali.

2)Dissous dans une solution alcaline chaude à un taux très lent.

3) Le NaOH, le H2SO4 et le H3PO4 peuvent rapidement corroder la qualité inférieure de GaN, peuvent être employés pour des ces détection de défaut en cristal de GaN de qualité inférieure.

4) GaN dans le HCL ou l'hydrogène, à température élevée présente des caractéristiques instables.

5) GaN est le plus stable sous l'azote.

Propriétés électriques de GaN

1) Les propriétés électriques de GaN sont les facteurs les plus importants affectant le dispositif.

2) Le GaN sans le dopage était n dans tous les cas, et la concentration en électron du meilleur échantillon était au sujet de 4* (10^16) /c㎡.

3) Généralement, les échantillons préparés de P sont fortement compensés.

Propriétés optiques de GaN

1) Le matériel large de semi-conducteur composé d'espace de bande avec la largeur de bande élevée (2.3~6.2eV), peut couvrir le vert jaune rouge, bleu, violet et le spectre ultraviolet, est jusqu'ici que tous les autres matériaux de semi-conducteur ne peuvent pas réaliser.

2) Principalement utilisé dans le dispositif luminescent bleu et violet.

Propriétés de GaN Material

1) La propriété à haute fréquence, arrivent à 300G hertz. (Le SI est 10G et la GaAs est 80G)

2) Propriété à hautes températures, travail à 300℃, très approprié normaux à environnement aérospatial, militaire et autre à hautes températures.

3) Le de glissement des électrons a la vitesse élevée de saturation, la basse conduction thermique constante et bonne diélectrique.

4) La résistance d'acide et d'alcali, résistance à la corrosion, peut être employée dans l'environnement dur.

5) Caractéristiques à haute tension, résistance à l'impact, fiabilité élevée.

6) Le pouvoir étendu, le matériel de transmission est très désireux.

 
Application de GaN

Utilisation principale de GaN :

1) diodes électroluminescentes, LED

2) transistors à effet de champ, FET

3) diodes lasers, LD

 
             Spécifications
 
 
Spécifications4aracteristic de C

 

D'autres spécifications du relaterd 4INCH GaN Template

 

 

     
  Substrats de ₃ du ₂ O d'Al de GaN/(4") 4inch
Article Non dopé de type n

Haut-enduit

de type n

Taille (millimètres) Φ100.0±0.5 (4")
Structure de substrat GaN sur le saphir (0001)
SurfaceFinished (Norme : Option de SSP : DSP)
Épaisseur (μm) 4.5±0.5 ; 20±2 ; Adapté aux besoins du client
Type de conduction Non dopé de type n de type n Haut-enduit
Résistivité (Ω·cm) (300K) ≤0.5 ≤0.05 ≤0.01
GaN Thickness Uniformity
 
≤±10% (4")
Densité de dislocation (cm2)
 
≤5×108
Superficie utilisable >90%
Paquet Emballé dans un environnement de pièce propre de la classe 100.
 

4

44

Structure cristalline

Wurtzite

Constante de trellis (Å) a=3.112, c=4.982
Conduction à bande Bandgap direct
Densité (g/cm3) 3,23
Microdureté extérieure (essai de Knoop) 800
Point de fusion (℃) 2750 (barre 10-100 en N2)
Conduction thermique (W/m·K) 320
Énergie d'espace de bande (eV) 6,28
Mobilité des électrons (V·s/cm2) 1100
Champ électrique de panne (MV/cm) 11,7

4

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4" Sapphire Based GaN Templates Semiconductor Substrate

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GaN-saphir 4inch
Point d'origine :
La Chine
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Capacité d'approvisionnement :
50PCS/Month
Délai de livraison :
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4 Sapphire Based GaN Templates Semiconductor Substrate
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