Céramique d'alumine de haute pureté avec une résistivité volumique de 10⁴ Ohm*cm pour les applications en semi-conducteurs
Cette série de composants en céramique d'alumine spécifiques aux semi-conducteurs est fabriquée à partir d'un matériau Al₂O₃ de haute pureté à 99,6 % grâce à des procédés de coulée sur bande de précision et de frittage à haute température. Les produits présentent une excellente isolation, une résistance à la corrosion et une stabilité dimensionnelle, répondant aux exigences de propreté de la norme SEMI F47.
Fabrication de plaquettes : pièces en céramique pour machines de gravure, barquettes de diffusion
Conditionnement et tests : substrats de cartes de sondes, supports de test
Composants d'équipement : effecteurs d'extrémité de robot
Systèmes à vide : bases de mandrins électrostatiques
Inspection optique : guides en céramique pour machines de lithographie
✓ Ultra-propre : teneur en ions métalliques <0,1 ppm
✓ Dimensions de précision : Tolérance ±0,05 mm/100 mm
✓ Résistance au plasma : Taux de gravure <0,1 μm/h
✓ Faible dégazage : TML <0,1 % CVCM <0,01 %
✓ Haute fiabilité : Passe 1000 cycles thermiques
| Paramètre | Spécification | Norme d'essai |
|---|---|---|
| Pureté du matériau | Al₂O₃≥99,6 % | GDMS |
| Résistivité volumique | >10⁴Ω·cm | ASTM D257 |
| Constante diélectrique | 9,8@1MHz | CEI 60250 |
| Résistance à la flexion | ≥400MPa | ISO 14704 |
| CTE | 7,2×10⁻⁶/°C | DIN 51045 |
| Rugosité de surface | Ra≤0,1μm | ISO 4287 |
| Dégazage | TML<0,1 % | ASTM E595 |
Préparation du matériau :
Poudre d'Al₂O₃ de qualité nano (D50≤0,5μm)
Broyage à boulets de haute pureté (adjuvants de frittage Y₂O₃-MgO)
Procédé de formage :
Coulée sur bande (épaisseur 0,1-5 mm)
Pressage isostatique (200 MPa)
Contrôle du frittage :
Frittage en atmosphère multi-étapes (1600°C/H₂)
Post-traitement HIP (1500°C/150MPa)
Usinage de précision :
Traitement laser (±5μm)
Perçage ultrasonique (rapport d'aspect 10:1)
Nettoyage et inspection :
Nettoyage méga-sonique (salle blanche de classe 1)
Tests de particules SEMI F47
⚠ Stockage : Emballage propre de classe 100
⚠ Environnement d'installation : 23±1°C HR45±5 %
⚠ Nettoyage : Solvants de qualité semi-conducteur uniquement
⚠ Manipulation : Éviter le contact direct avec les surfaces fonctionnelles
Vérification de la propreté : rapports de test VDA19
Analyse des défaillances : microanalyse SEM/EDS
Développement personnalisé : co-conception DFM
Q : Comment garantir la propreté de la surface de contact des plaquettes ?
R : Triple protection :
① Activation de surface par plasma
② Emballage sous vide + stockage N₂
③ Nettoyage à l'air ionisé avant l'installation
Q : Performance dans le plasma à base de fluor ?
R : Version traitée spéciale :
• Taux de gravure <0,05μm/h
• Couche de passivation AlF₃
• Durée de vie 3 fois plus longue
Q : Taille maximale traitable ?
R : Standard 200×200 mm, procédé spécial jusqu'à 400×400 mm.



