Les spécifications
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Définition

Performance d'isolation Des bases en céramique d'alumine pour les équipements de mesure de précision et l'inspection industrielle

 

Ces bases de support en céramique d'alumine sont fabriquées à l'aide d'un matériau Al2O3 de 99,6% de haute pureté, spécialement conçu pour les équipements de mesure à semi-conducteurs, optiques et de précision.d'une épaisseur supérieure ou égale à 0,01 mm.01 mm/m et un coefficient de dilatation thermique de 7,2×10−6/°C, les produits maintiennent une stabilité dimensionnelle exceptionnelle à des températures extrêmes (-60°C~1500°C) et dans des environnements à vide (≤10−8Pa).

 

Principaux domaines d'application

  • Équipement à semi-conducteurs: stades de plaquettes de lithographie, bases de chambres de réacteurs à gravure

  • Optique de précision: Plateformes de référence d'interféromètres laser, montures de miroirs pour télescopes spatiaux

  • Instruments d'analyse: échantillonnage par microscope électronique, support de source ionique par spectromètre de masse

  • Inspection industrielle: bases de machines CMM, plateaux tournants pour le test de la rondeur

  • Une nouvelle énergie: supports de pile à combustible, supports d'équipement de revêtement photovoltaïque

 

Matrice des avantages de performance

Caractéristique Spécification technique Valeur d'application
Stabilité thermique ΔL/L < 0,001%/°C Élimine les erreurs de dérive thermique
Compatibilité sous vide Taux de dégazage < 10−11 Pa·m3/s Maintient un vide très élevé
Résistance mécanique Résistance à la flexion> 400 MPa Prend en charge les composants de précision sans déformation
Performance de l'isolation Résistance au volume> 1016Ω·cm Élimine les interférences liées aux fuites électriques

 

Spécifications techniques

Paramètre Type standard Type à haute précision
La pureté matérielle 990,6% Al2O3 990,9% Al2O3
Plateur ≤ 0,02 mm/m ≤ 0,005 mm/m
Roughness de la surface Ra0,1 μm Ra0,025 μm
Coefficient de dilatation thermique 7.5 × 10−6/°C 7.2×10−6/°C
Taux de fuite du vide Pour les appareils à combustion Pour les appareils de traitement des eaux usées

 

Processus de fabrication de précision

  1. Traitement des poudres: poudre de haute pureté de 0,1 μm avec granulation par pulvérisation

  2. Le processus de formation: Presse isostatique (300 MPa) combinée à l'usinage vert CNC

  3. Technologie de frittage: Sintration par dégradé à 1700°C dans une atmosphère hydrogène

  4. Machinerie de précision:

    • à haute résistance à l'usure

    • Polissage magnétoréologique (précision de surface λ/20@632,8 nm)

  5. Traitement en salle blanche: Assemblage terminé en salle blanche de classe 100

  6. Inspection complète: Interféromètre laser + inspection dimensionnelle complète par CMM

 

Lignes directrices d'installation

  • Exigences relatives à l'installation:
    ✓ Utiliser une clé de couple (valeur recommandée 1,5 ± 0,2 N·m)
    ✓ Utilisez des outils de salle blanche
    ✓ Préajustement recommandé de l'appariement thermique (gradient de température < 2°C/min)

  • Les limites de l'environnement:
    Évitez le contact avec l' acide fluorhydrique
    Éviter les chocs thermiques > 200°C/min
    Ne convient pas à des environnements d'oxydation continue > 1600 °C

 

Engagement au service

  • Appui technique: analyse de stress gratuite de la FEA

  • Réaction rapide: service accéléré de 72 heures

  • Gestion de la traçabilité: enregistrements de production complets sur 10 ans

  • Appui à la certification: documents de certification SEMI/FDA/ISO fournis

 

Questions fréquentes

Q: Comment assurer la correspondance thermique avec les composants en carbure de silicium?
A: conception de transition de gradient CTE disponible (réglable à 7,2-4,5 × 10−6/°C)

Q: Dimensions maximales traçables?
R: Limite technique actuelle de 500×500×100 mm (outillage spécial requis)

Q: La modification du conducteur est-elle prise en charge?
A: versions antistatiques personnalisables avec une résistance de surface de 104 à 1010Ω

Q: Comment la propreté au niveau des plaquettes est-elle garantie?
R: Stérilisation finale par VHP (péroxyde d'hydrogène vaporisé)

 

 

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Dayoo Advanced Ceramic Co.,Ltd

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