Substrats de disques de verre critiques de planéité optique pour la déposition de films minces

Matériel

• Verre de haute pureté: généralement fabriqué à partir de silice fondue (JGS1/JGS2), de borosilicate ou de quartz, sélectionné pour une expansion thermique ultra-faible et une inerté chimique.

  • Silice fondue: préférée pour son homogénéité exceptionnelle, sa faible teneur en OH et sa résistance aux chocs thermiques.

  • L'acide borosilicate: Alternative rentable avec une stabilité thermique modérée et une bonne polissabilité de surface.

• Qualité de la surface: Conçu avec une planéité de λ/10 à λ/20 pour assurer un écart minimal pour les revêtements de précision.

Propriétés clés

1. Plaineté optique: planéité de surface ≤ λ/10 (à 632,8 nm), essentielle pour le dépôt uniforme de film mince et la minimisation de la distorsion du front d'onde.

2. Stabilité thermique: Faible coefficient de dilatation thermique (par exemple, 0,55 x 10−6/°C pour la silice fondue) empêche la déformation lors de processus à haute température tels que la CVD ou la pulvérisation.

3. Résistance chimique: Inerte aux acides, plasma et solvants, assurant une durabilité dans des environnements de dépôt agressifs.

4. Homogénéité de surface: l'uniformité de l'indice de réfraction (± 5 x 10−6) évite les distorsions optiques dans les films revêtus.

5. Durabilité mécanique: Haute dureté (Mohs 5·7) résiste aux rayures lors de la manipulation et du traitement.

Fonction

• Substrate à film mince: Fournit une base ultraplate et stable pour le dépôt de revêtements (anti-réflecteurs, diélectriques, métalliques).

• Compatibilité des processus: Compatible avec les techniques PVD, CVD, ALD et de pulvérisation, assurant une adhérence et une épaisseur de film uniformes.

• Référence en métrologie: sert de norme d'étalonnage pour les interféromètres et les profilers de surface en raison de sa planéité précise.

Applications

• Fabrication de semi-conducteurs: masques photographiques, miroirs de lithographie EUV et appareils optiques MEMS.

• Industrie de l'optique: filtres revêtus, séparateurs de faisceaux et optique laser nécessitant une précision de niveau nanométrique.

• Recherche et développement: nanotechnologie, photonique et expériences en informatique quantique.

• Aérospatiale et défense: capteurs de précision, optique par satellite et systèmes de guidage laser.

• Dispositifs médicaux: revêtements optiques pour systèmes d'imagerie, endoscopes et équipements de diagnostic.