Le four de dépôt en phase vapeur HWF6630-10 est conçu pour le traitement thermique à température moyenne des produits électroniques. Il prend en charge les processus de réaction en phase vapeur dans des atmosphères d'azote, d'acétylène et d'hydrogène, ainsi que les processus de frittage sous atmosphères protectrices. Équipé d'un système de surveillance informatique en temps réel, ce four est idéal pour les tests de processus de matériaux dans les environnements de recherche.

• Modèle : HWF6630-10
• Température de fonctionnement : 750°C
• Température maximale : 1000°C
• Taille effective de la chambre : Φ600×300mm (D×H)
• Élément chauffant : Chauffage interne avec des tubes chauffants en acier inoxydable
• Atmosphère de traitement : Azote, Hydrogène, Acétylène
• Méthode de chauffage : Chauffage en fibre céramique FEC
• Points de contrôle de la température : 2
• Stabilité de la température : ±1°C, avec fonction d'auto-réglage des paramètres PID
• Méthode de contrôle : Écran tactile + contrôle centralisé PLC
• Protection d'alarme : Alarmes sonores et visuelles en cas de surchauffe et de rupture de thermocouple
• Taux de chauffage : ≤6°C/min
• Puissance de chauffage : 16kW
• Exigences d'alimentation : 3 phases 5 fils, 220/380V, 50Hz
• Dimensions externes : 1185×1745×1780mm (L×H×P)

• Conditions environnementales : Température 0~40°C, humidité ≤80% HR, pas de gaz corrosifs
• Exigences relatives au sol : Niveau, pas de vibrations importantes, capacité de charge >500 kg/m²
• Exigences d'alimentation : Capacité >22 kVA, 3 phases 5 fils, 220/380V, 50Hz
• Espace d'installation : 1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (P × L × H)