Les spécifications
Numéro de type :
BR-PECVD
Point d'origine :
La Chine
MOQ :
1 jeu
Conditions de paiement :
L / C, T / T, Western Union
Capacité d'approvisionnement :
200 ensembles par mois
Délai de livraison :
7-21 jours ouvrables
Détails d'emballage :
Boîte en bois forte pour l'expédition globale
Température maximale :
1200℃
Vide normal :
-0.1Mpa
Vide maximum :
Pompe moléculaire de configuration, PA du vide 7x10-4 (facultative)
Bride :
bride de cachetage de l'acier inoxydable 304
Protection de surchauffe :
puissance- automatique quand la température dépasse la valeur réglée permise
Protection de sécurité :
Automatiquement mise hors tension quand le corps de four coule
Structure de four :
ventilateur en acier de double couche double, température de surface au-dessous de 50℃
TAUX DE CHAUFFAGE DE MAX :
20°C /min
Exactitude de la température :
±1℃
Uniformité de la température :
±5℃
Contrôle de température :
50 segments programmables et contrôle automatique
Tube de four :
Tube de quartz
Application :
PECVD
Définition

four de 1200C Max. Lab PECVD Tube avec la livraison et la pompe à vide de gaz
 
 
Introduction intelligente de PECVD :
Le système de PECVD est conçu pour diminuer la température de réaction de la CVD traditionnelle. Il a installé l'équipement d'induction de rf devant la CVD traditionnelle pour ioniser réagir le gaz, ainsi le plasma est produit. Le plasma de forte activité est réaction est dû accéléré au de forte activité du plasma. Ainsi, ce système s'appelle le PECVD.
Ce modèle est le produit le plus, il a synthétisé les avantages de la plupart de système du tube PECVD, et a ajouté préchauffer la zone dans l'avant du système de PECVD. Les essais ont prouvé que la vitesse de dépôt est plus rapide, qualité de film est meilleur, les trous est moins, et ne fendra pas. Le système de contrôle intelligent complètement automatique d'AISO est indépendamment conçu par notre société, il est plus commode d'utiliser et sa fonction est plus puissante.
Grand choix d'application : film de film métallique et en céramique, film composé, croissance continue de divers films. Facile d'augmenter la fonction, peut augmenter gravure à l'eau forte de nettoyage de plasma et d'autres fonctions
 
 
Caractéristique principale :
 

  • Taux de dépôt élevé de film : La technologie de lueur de rf, augmentant considérablement le taux de dépôt du film, le taux de dépôt peut atteindre 10Å/S
     
  • Uniformité élevée de secteur : La technologie de alimentation multipoint avancée de rf, la distribution de chemin de gaz et la technologie de chauffage spéciale, etc., font la portée 8% d'index d'uniformité de film
     
  • Cohérence élevée : utilisant le concept de construction avancé de l'industrie de semi-conducteur, la déviation entre les substrats d'un dépôt est moins de 2%
     
  • Stabilité de processus élevée : L'équipement fortement stable assure le processus continu et stable

 
 
Pièces de rechange standard :

  • Branchement des PCs du tube 4
  • PC du tube de four 1
  • PC de la pompe à vide 1
  • Ensembles de la bride 2 de fermeture sous-vide
  • PC de la mesure de vide 1
  • La livraison et pompe à vide de gaz
  • Équipement de plasma de rf

 
Pièces de rechange facultatives :
 

  • Bride de libération rapide, bride à trois voies
  • 7 éboulis de contact de pouce HD

 
 
 
Spécifications standard de four de tube de 1200℃ PECVD :
 

1. Système de chauffage
Max.temperature 1200℃ (1 heure)
La température fonctionnante ≤1100℃
Taille de chambre Φ100*1650mm (le diamater de tube est personnalisable)
Matériel de chambre Panneau de particules d'alumine de grande pureté
Thermocouple Type de K
Temperatureaccuracy ±1℃
Contrôle de température

●50 segments programmables pour le contrôle précis du taux de chauffage, du taux de refroidissement et du temps de pause.

●Construit dans la fonction d'Automatique-air de PID avec la protection cassée de thermocouple surchauffant et cassé.

●Système de contrôle automatique de PLC par le contrôleur de PC à l'intérieur.

●Le système de contrôle de température, glissant le système (temps et distance) pourrait être commandé par programme.

Longueur de chauffage 440mm
Longueur de chauffage constante 200mm
Élément de chauffe Fil de résistance
Alimentation d'énergie Monophasé, 220V, 50Hz
Puissance évaluée 9kW
2. Source de plasma de rf
Fréquence de rf 13,56 MHz±0.005%
De puissance de sortie 500W
Maximum reflétez la puissance 500W
Interface de sortie de rf 50 Ω, de type n, femelles
Stabilité de puissance ±0.1%
Composant harmonique ≤-50dbc
Tension d'alimentation/fréquence Monophasé AC220V 50/60HZ
Efficacité entière >=70%
Facteur de puissance >=90%
Méthode de refroidissement Air forcé
3. Système de contrôle de trois de précision débitmètres de la masse
Dimension externe 600x600x650mm
Type de connecteur Swagelok solides solubles commun
Gamme standard (N2) 0~100sccm, 0~200sccm, ou personnalisable
Exactitude ±1.5%
Linéaire ±0.5~1.5%
Répétabilité ±0.2%
Temps de réponse

Propriété de gaz : Sec 1~4 ;
Propriété électrique : Sec 10

Chaîne de pression 0.1~0.5 MPA
Max.pressure 3MPa
Interface Φ6,1/4 »
Affichage affichage de 4 chiffres
Température ambiante gaz de la grande pureté 5~45
Indicateur de pression - 0.1~0.15 MPA, 0,01 MPA/unité
La soupape d'arrêt Φ6
Tube polonais de solides solubles Φ6
Le bas système de vide a inclus
 

 
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Bride de cachetage d'acier inoxydable du four de tube de laboratoire de PECVD 304 avec la livraison de gaz

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Bride de cachetage d'acier inoxydable du four de tube de laboratoire de PECVD 304 avec la livraison de gaz

Zhengzhou Brother Furnace Co.,Ltd

Verified Supplier
7 Années
henan, zhengzhou
Depuis 1998
Type d'entreprise :
Manufacturer, Exporter
Total annuel :
300M-600M
Nombre de salariés :
100~200 People
Niveau de certification :
Verified Supplier
Fournisseur de contact
Exigence de soumission