Le four de dépôt de vapeur peut être utilisé pour chauffer et vaporiser des halogénures métalliques, des composés organiques métalliques,hydrocarbures et autres sources de réaction sous pression spécifique pour générer des sédiments solides à la surface du matériau cibleIl est également utilisé pour le dépôt de vapeur chimique de matériaux composites avec du gaz d'hydrocarbures (comme le C3H8, etc.) comme source de carbone, tels que les matériaux composites C/C, les matériaux composites SiC, CVD,Traitement du CVI.

Caractéristiques:

1) À température moyenne ou élevée, la matière solide se forme et se dépose sur la matrice par la réaction chimique en phase gazeuse entre les composés initiaux en phase gazeuse.

2) Il peut être déposé sous pression atmosphérique ou sous vide (dépôt sous pression négative, généralement la qualité du film de dépôt sous vide est meilleure).

3) L'utilisation de la technologie assistée par plasma et laser peut favoriser de manière significative la réaction chimique, de sorte que le dépôt puisse être effectué à une température inférieure.

4) La composition chimique du revêtement peut changer avec le changement de la composition de la phase gazeuse, de manière à obtenir un sédiment de gradient ou un revêtement mixte.

5) Peut contrôler la densité et la pureté du revêtement.

6) autour des pièces plaquées. Il peut être revêtu sur matrice de forme complexe et matériau granulaire. Convient pour le revêtement de toutes sortes de formes complexes de la pièce à usiner. En raison de ses bonnes performances de revêtement,il peut être recouvert de rainures, rainures, trous et même trous aveugles de la pièce.

7) La couche déposée a généralement une structure cristalline colonne et n'est pas résistante à la flexion,mais sa structure peut être améliorée par perturbation de la phase gazeuse de la réaction chimique par diverses techniques.

8) peut former une variété de revêtements métalliques, alliés, céramiques et composés par diverses réactions.